PVD离子镀是离子镀膜技术的简称，即ion plating.PVD离子镀是结合真空蒸发镀和溅射镀的特点而发展起来的一种镀膜技术。

PVD离子镀是在气体放电或真空中，在气体离子或蒸发离子的轰击下，蒸发物质电离，在基体上沉积。PVDl离子镀是辉光放电/等离子体技术和真空蒸发技术的结合，大大提高了涂层的性能，拓宽了涂层技术的应用范围。离子镀膜技术具有附着力强，绕射性好，环保等优点。其重要的特点是在基体上施加负偏压，加速离子的形成。PVD离子镀同其他杏盛测速工艺一样得到了飞速的发展，应用领域也越来越广泛，并且将会在未来很长一段时间为不断发展的制造业提供服务。

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